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J-GLOBAL ID：201902275406058113   整理番号：19A0295821

配位不飽和サイトを有するナノポーラス金属錯体による希薄ガスの吸着除去

著者 (7件)： 米津章 (名大 院) ,  森田将司 (名大 院) ,  森田将司 (パナソニック) ,  日下心平 (名大 院) ,  堀彰宏 (名大 院) ,  馬運声 (名大 院) ,  松田亮太郎 (名大 院)
資料名： 日本吸着学会研究発表会講演要旨集
巻： 32nd  ページ： 85  発行年： 2018年11月08日 
JST資料番号： L8217A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 多孔性 ,  *ナノ材料 ,  *金属錯体 ,  *希薄気体 ,  *除去 ,  吸着 ,  包接化合物 ,  カルボン酸塩 ,  銅錯体 ,  配位高分子 ,  Yゼオライト ,  Raman分光法 ,  経時変化 ,  配位結合 ,  MOF【配位高分子】 ,  ナノポーラス ,  *吸着除去 ,  *ナノポーラス材料 ,  窒素複素環化合物 ,  架橋化合物 ,  芳香族カルボン酸 ,  ジカルボン酸 ,  脂肪族化合物 ,  スルフィド
準シソーラス用語： HKUST-1 ,  *ナノポーラス体

分類 (2件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  分子化合物  (CE02000C)

物質索引 (4件)： 1,3,5-ベンゼントリカルボン酸 ,  1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン ,  1,4-ベンゼンジカルボン酸 ,  ジメチルスルフィド

タイトルに関連する用語 (5件)： 不飽和 ,  ナノポーラス ,  金属錯体 ,  希薄ガス ,  吸着除去