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J-GLOBAL ID：201902278863576357   整理番号：19A1866780

配位不飽和サイトを有するナノポーラス金属錯体による希薄硫黄ガスの吸着除去

著者 (7件)： 米津章 (名大 院) ,  森田将司 (名大 院) ,  森田将司 (パナソニック) ,  日下心平 (名大 院) ,  堀彰宏 (名大 院) ,  MA Yunsheng (名大 院) ,  松田亮太郎 (名大 院)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 99th  ページ： ROMBUNNO.1C1-47  発行年： 2019年03月01日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノポーラス金属錯体(MOF)は金属イオンと有機配位子により形成され,細孔サイズや形状,表面の性質を自在に制御可能である。従来材料と異なり,構造中にて金属イオンが原子レベルで存在するため,吸着性能の向上が期待できる。本研究では,燃料電池システムでの応用を見据え,希薄な難吸着性硫黄成分ジメチルスルフィドを対象に,HKUST-1(Cu(II)及びトリメシン酸)を用いたところ,従来材料と比較して3倍程度高性能であり,その吸着状態をラマン分光等により明らかにする。(著者抄録)

シソーラス用語： ナノ材料 ,  *多孔質体 ,  配位高分子 ,  吸着 ,  *銅錯体 ,  脱硫 ,  Ramanスペクトル ,  *吸着剤 ,  *スルフィド ,  MOF【配位高分子】 ,  吸着容量 ,  ナノポーラス材料 ,  脂肪族化合物
準シソーラス用語： HKUST-1 ,  ナノ多孔質体

分類 (3件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (2件)： ジメチルスルフィド ,  トリメシン酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 不飽和 ,  ナノポーラス ,  金属錯体 ,  硫黄 ,  吸着除去