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J-GLOBAL ID：201902287633174233   整理番号：19A1740839

Ta₂NiSe₅における光誘起励起子絶縁体相融解のダイナミクスと励起光子密度依存性

著者 (10件)： 宮本辰也 (東大 大学院) ,  水井誠 (東大 大学院) ,  平田純也 (東大 大学院) ,  山川大路 (東大 大学院) ,  森本剛史 (東大 大学院) ,  貴田徳明 (東大 大学院) ,  中埜彰俊 (名古屋大 工) ,  澤博 (名古屋大 工) ,  岡本博 (東大 大学院) ,  岡本博 (産業技術総合研)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 74  号： 1  ページ： ROMBUNNO.17aK208-2  発行年： 2019年03月22日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 層状遷移金属カルコゲナイドTa2NiSe5は、328 K以下で励起子絶縁体相を形成する[1]。前回までに、我々は、フェムト秒パルス(一次元鎖(a軸)方向に平行な偏光)照射後の過渡反射率変化を検出することで、光励起によってTa2NiSe5の励...【本文一部表示】

シソーラス用語： 層状化合物 ,  *セレン化物 ,  *ニッケル化合物 ,  *タンタル化合物 ,  *絶縁体 ,  *融解 ,  *動力学 ,  *フェムト秒レーザ ,  パルスレーザ照射 ,  *レーザ励起 ,  密度依存性 ,  ポンププローブ法
準シソーラス用語： 励起光子密度依存性 ,  *励起子絶縁体

分類 (1件)： 励起子  (BM02120E)

タイトルに関連する用語 (8件)： Ta2NiSe5 ,  光誘起 ,  励起子絶縁体 ,  融解 ,  ダイナミクス ,  励起 ,  光子 ,  密度依存性