特許
J-GLOBAL ID:201903002275787880

錯体化合物及びシロキサンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 平川 明 ,  佐貫 伸一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-200517
公開番号(公開出願番号):特開2019-073473
出願日: 2017年10月16日
公開日(公表日): 2019年05月16日
要約:
【課題】シロキサンを効率良く製造することができるシロキサンの製造方法とシロキサンの製造において有用な化合物の提供。【解決手段】2位と9位が2個のアルキル基を有するリン含有基でメチレン基を介して置換された、1,10-フェナントロリンの窒素とリンをともに配位子とする鉄又はリチウム錯体化合物の存在下で、ヒドロシラン化合物とシラノール化合物の脱水素縮合反応を進行させることにより、シロキサンを効率良く製造する方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(C-1)〜(C-5)の何れかで表される錯体化合物。
IPC (5件):
C07F 9/58 ,  C07F 15/02 ,  C07F 19/00 ,  C07F 7/18 ,  B01J 31/24
FI (5件):
C07F9/58 B ,  C07F15/02 ,  C07F19/00 ,  C07F7/18 X ,  B01J31/24 Z
Fターム (57件):
4G169AA06 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE27A ,  4G169BE27B ,  4G169BE33A ,  4G169BE33B ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB21 ,  4G169CB25 ,  4G169CB80 ,  4G169DA02 ,  4G169FA01 ,  4G169FB05 ,  4H039CA92 ,  4H039CL25 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB40 ,  4H048VA32 ,  4H048VA50 ,  4H048VB10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP03 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ60 ,  4H049VQ61 ,  4H049VQ78 ,  4H049VR11 ,  4H049VR12 ,  4H049VR21 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VS07 ,  4H049VS16 ,  4H049VS61 ,  4H049VT03 ,  4H049VT16 ,  4H049VT36 ,  4H049VT38 ,  4H049VU33 ,  4H049VW01 ,  4H049VW02 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40

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