特許
J-GLOBAL ID:201903006780499410

有機半導体膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): アクシス国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-206143
公開番号(公開出願番号):特開2019-054259
出願日: 2018年10月31日
公開日(公表日): 2019年04月04日
要約:
【課題】均質性の高い単結晶性有機半導体膜の製造方法及びそれを備えた有機半導体デバイスを提供する。【解決手段】3-クロロチオフェンを溶剤にして溶液を調整し、エッジキャスト法による溶媒蒸発法により有機半導体膜を形成することにより、1mm2当たりの面積中に存在するドメイン数が10以下であるポリチオフェン又はチアノアセンからなる単結晶性有機半導体膜を形成する。この半導体膜を用いて有機半導体デバイスを形成する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
本明細書に記載の発明。
IPC (4件):
H01L 51/40 ,  H01L 51/05 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786
FI (5件):
H01L21/368 L ,  H01L29/28 310J ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/78 618A ,  H01L29/78 618B
Fターム (22件):
5F053AA44 ,  5F053AA50 ,  5F053DD19 ,  5F053FF01 ,  5F053GG02 ,  5F053HH04 ,  5F053HH05 ,  5F053LL04 ,  5F053PP03 ,  5F053RR03 ,  5F110AA26 ,  5F110CC01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF05 ,  5F110GG05 ,  5F110GG13 ,  5F110GG24 ,  5F110GG28 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示
引用文献:
前のページに戻る