特許
J-GLOBAL ID:201903018785603868
イリジウム錯体等を用いたアリル化合物のヒドロシリル化によるシリル化合物の製造方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人秀和特許事務所
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2017008820
公開番号(公開出願番号):WO2017-154846
出願日: 2017年03月06日
公開日(公表日): 2017年09月14日
要約:
イリジウム錯体及び/又はイリジウム塩の存在下、下記式(A)で表されるアリル化合物と下記式(B)で表されるヒドロシラン化合物を反応させることにより、下記式(C)で表されるシリル化合物が効率良く生成する。(式(A)〜(C)中、Xは塩素原子、臭素原子、若しくはヨウ素原子、又は酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10のアシルオキシ基を、R1、R2、及びR3はそれぞれ独立して水素原子、又は酸素原子、窒素原子、ホウ素原子、及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を、R4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ケイ素原子数1〜20の(ポリ)シロキシ基、又は酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。)
請求項(抜粋):
イリジウム錯体及び/又はイリジウム塩の存在下、下記式(A)で表されるアリル化合物と下記式(B)で表されるヒドロシラン化合物を反応させて下記式(C)で表されるシリル化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とする、シリル化合物の製造方法。
IPC (2件):
FI (3件):
C07F7/18 J
, C07F7/18 E
, B01J31/22 Z
Fターム (38件):
4G169AA06
, 4G169AA11
, 4G169BA21A
, 4G169BA26A
, 4G169BA27A
, 4G169BA28A
, 4G169BA28B
, 4G169BE01A
, 4G169BE02A
, 4G169BE03A
, 4G169BE08A
, 4G169BE32A
, 4G169BE36A
, 4G169BE46A
, 4G169BE48A
, 4G169CB25
, 4G169CB62
, 4G169CB80
, 4G169DA02
, 4G169FA01
, 4H039CA92
, 4H039CF10
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ12
, 4H049VQ21
, 4H049VQ28
, 4H049VR21
, 4H049VR22
, 4H049VR42
, 4H049VR43
, 4H049VS02
, 4H049VS21
, 4H049VT17
, 4H049VV02
, 4H049VW01
, 4H049VW02
, 4H049VW32
前のページに戻る