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J-GLOBAL ID：202002213247203900   整理番号：20A1023894

半導体洗浄装置内に発生する大規模渦構造の制御について

Control of large-scale vortices occurring in the semiconductor wafer cleaner

著者 (4件)： 河内俊憲 (岡山大) ,  青山翼 (岡山大 大学院) ,  永田靖典 (岡山大) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大)
資料名： 日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会中国四国支部総会・講演会(CD-ROM))
巻： 58th  ページ： ROMBUNNO.05b5  発行年： 2020年 
JST資料番号： L0015B  ISSN： 2424-2764  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製造における洗浄方式として,“枚葉式洗浄”と呼ばれるウエハを1枚ずつ洗浄する方式が主流である.この洗浄方法では円板の回転数,ダウンフローの影響により洗浄機内の空気の流れが乱れ,装置内に大規模な渦が発生することが分かっている.この渦に乗って回転で振り切られた超純水のミストや微小パーティクルがウエハに再付着する恐れがある.これは半導体の品質に大きく影響するため防ぐ必要がある.そこで本研究では回転円盤をモデル化した数値解析を行い,渦の発生を制御する仕組みを見つけることを目標としている.(著者抄録)

シソーラス用語： *洗浄装置 ,  *流れ構造 ,  *渦 ,  *ウエハ【IC】 ,  制御 ,  空気流 ,  数値解析 ,  回転円板 ,  *大規模渦 ,  *半導体ウエハ ,  流れ制御
準シソーラス用語： *渦構造

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  層流,乱流,境界層  (BC02030C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 洗浄装置 ,  大規模渦