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J-GLOBAL ID：202002237028591265   整理番号：20A2081084

ワイドバンド波長多重シリコンフォトニクス素子の創生

Development of Silicon Photonic Chip for Wideband WDM Telecommunication

著者 (1件)： 高橋和 (大阪府大 大学院工学研究科)
資料名： 日本板硝子材料工学助成会成果報告書(Web)  (Nippon Sheet Glass Foundation for Materials Science and Engineering Report (Web))
巻： 38  ページ： 93-99 (WEB ONLY)  発行年： 2020年 
JST資料番号： U1847A  ISSN： 2435-4627  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリコン光素子は極短距離光通信の普及に有効である。本研究の目的は,異なる光通信波長帯で動作するシリコン光素子を,同一の素子デザインを用いて,単一チップ上に集積することである。そのためには,1チップ内でシリコン基板の厚みを,光素子の動作波長に合わせて制御する必要がある。我々は,インクジェット装置と光干渉膜厚計を用いて,位置精度が100μm,厚み精度がサブナノメートルの薄膜化プロセスを開発した。これにより,例えば,1つのシリコンチップに,主要な光通信バンドである1310/1480/1550nm帯で動作する光素子を集積可能となる。デモンストレーションとして,1310nm帯と1550nm帯で動作するフォトニック結晶シリコンラマンレーザを,1チップ集積した。(著者抄録)

シソーラス用語： ケイ素 ,  オプトエレクトロニクス ,  広帯域 ,  *光学素子 ,  *集積 ,  ナノ構造 ,  シリコンフォトニクス
準シソーラス用語： Siフォトニクス ,  ワイドバンド ,  *集積化

分類 (1件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D)

引用文献 (8件)：

• R. Terawaki, Y. Takahashi, M. Chihara, Y. Inui, and S. Noda, Opt. Express 20(20), 22743 (2012).
• Y. Takahashi, Y. Inui, M. Chihara, T. Asano, R. Terawaki, and S. Noda, Nature 498(7455), 470 (2013).
• Y. Takahashi, T. Asano, D. Yamashita, and S. Noda, Opt. Express 22(4), 4692 (2014)
• T. Asano, Y. Ochi, Y. Takahashi, K. Kishimoto, and S. Noda, Opt. Express 25(3), 1769 (2017).
• K. Ashida, M. Okano, M. Ohtsuka, M. Seki, N. Yokoyama, K. Koshino, K. Yamada, and Y. Takahashi, J. Lightwave Technol. 36(20), 4774 (2018).

タイトルに関連する用語 (3件)： ワイドバンド ,  波長多重 ,  シリコンフォトニクス