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J-GLOBAL ID：202002245553147064   整理番号：20A2239134

バイナリマスクとハーフトーンマスクで作製された高Q値ナノ共振器

High-Q Silicon Nanocavities fabricated with binary mask and halftone mask

著者 (7件)： 高橋友基 (大阪府大 大学院) ,  安田孝正 (大阪府大 大学院) ,  岡野誠 (産業技術総合研) ,  大塚実 (産業技術総合研) ,  関三好 (産業技術総合研) ,  横山信幸 (産業技術総合研) ,  高橋和 (大阪府大 大学院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.14p-PB3-8  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 概要. 高Q値シリコンナノ共振器の産業応用にはCMOS互換プロセスを利用した大量作製が重要と考えられる.我々は,CMOSプロセスを用いて平均Q値19...【本文一部表示】

シソーラス用語： *共振器 ,  格子定数 ,  標準偏差 ,  ケイ素 ,  分解能 ,  フォトマスク ,  波長 ,  *Q値 ,  *微小共振器 ,  フォトニック結晶 ,  CMOS ,  ヘテロ構造 ,  フッ化アルゴン ,  共鳴波長 ,  マスク
準シソーラス用語： CMOSプロセス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 半導体レーザ  (BD04070L)

タイトルに関連する用語 (4件)： バイナリマスク ,  作製 ,  Q値 ,  ナノ共振器