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J-GLOBAL ID：202102236255505178   整理番号：21A1575056

3次元積層型CIS向け分子イオン注入エピタキシャルウェーハの特性(II)-CH₄Nイオン注入誘起欠陥の熱的分解挙動の加熱TEMその場観察-

Characteristics of Molecular Ion Implanted Epitaxial Silicon Wafers for 3D-stacked CMOS Image Sensors (II)-In Situ TEM Observation of Thermal Dissolution Behavior of CH₄N Multielement-Molecular-Ion-Implantation-Induced Defects-

著者 (8件)： 鈴木陽洋 (SUMCO) ,  門野武 (SUMCO) ,  廣瀬諒 (SUMCO) ,  小林弘治 (SUMCO) ,  柾田亜由美 (SUMCO) ,  奥山亮輔 (SUMCO) ,  古賀祥泰 (SUMCO) ,  栗田一成 (SUMCO)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 68th  ページ： ROMBUNNO.19a-Z29-2  発行年： 2021年02月26日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： *エピタクシー ,...

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分類 (5件)： バイオアッセイ  (EA03060N) ,  半導体レーザ  (BD04070L) ,  抗原・抗体・補体一般  (ED04010A) ,  分析機器  (CC02020S) ,  蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N)

タイトルに関連する用語 (11件)： 3次元 ,  CIS ,  分子イオン ,  注入 ,  エピタキシャルウェーハ ,  誘起 ,  欠陥 ,  熱的分解 ,  挙動 ,  TEM ,  その場観察