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J-GLOBAL ID：202102288179894614   整理番号：21A1660594

OpenFOAMによる半導体洗浄装置内流れの数値解析

Numerical Study of the Flow in the Semiconductor Wafer Cleaner by OpenFOAM

著者 (5件)： 柳瀬眞一郎 (岡山大) ,  青山翼 (岡山大) ,  河内俊憲 (岡山大) ,  永田靖典 (岡山大) ,  三好勇輝 (岡山大)
資料名： 日本機械学会流体工学部門講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 96th  ページ： ROMBUNNO.OS15-6  発行年： 2018年11月28日 
JST資料番号： L0394B  ISSN： 1348-2882  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *半導体 ,  *洗浄装置 ,  *内部流 ,  *数値解析 ,  ウエハ【IC】 ,  乾燥空気 ,  ターンテーブル ,  流れ構造 ,  粒子画像流速測定 ,  *流れの可視化 ,  *容器 ,  大規模渦 ,  *CFD【流体力学】 ,  *流体力学 ,  *物理学 ,  *科学 ,  *力学 ,  *連続体力学 ,  *自然科学
準シソーラス用語： *計算流体力学 ,  *OpenFOAM ,  渦構造 ,  *洗浄性 ,  半導体製造 ,  枚葉式

分類 (2件)： 管内流  (BC02090Q) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (4件)： OpenFOAM ,  洗浄装置 ,  流れ ,  数値解析