特許
J-GLOBAL ID：202103013944197120
ヒドロシランの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
平川 明
, 佐貫 伸一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-231365
公開番号（公開出願番号）：特開2019-099490
特許番号：特許第6954615号
出願日： 2017年12月01日
公開日（公表日）： 2019年06月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 水素化ホウ素塩とハロゲン原子を有する炭素原子数1〜20の炭化水素及び/又は金属塩とを反応させる第一工程、及びリン酸トリアミドの存在下、前記第一工程の反応生成物を下記式(A-1)〜(A-5)の何れかで表されるアルコキシシランと反応させて下記式(B-1)〜(B-13)の何れかで表されるヒドロシランを生成する第二工程を含み、
前記第一工程が、アルカリ金属ヨウ化物、ハロゲン化アンモニウム、及びクラウンエーテルからなる群より選択される少なくとも1種の存在下で行われる、ヒドロシランの製造方法。
(式(A-1)〜(A-5)中、R1はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を、R2はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20のn価の炭化水素基を、R3はそれぞれ独立して炭素原子数1〜20のアルコキシ基、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1〜20の炭化水素基を、nは2〜10の整数を表す。)
(式(B-1)〜(B-13)中、R1はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を、R2はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20のn価の炭化水素基を、R3はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1〜20の炭化水素基を、nは2〜10の整数を表す。)
IPC (1件)：
FI (2件)：
C07F 7/08 B
, C07F 7/08 C
