特許

J-GLOBAL ID：202103016995665535

光吸収材料及びその製造方法

発明者： 古林 宏之 ,  池田 直 ,  狩野 旬 ,  青柳 佑海人
出願人/特許権者： 三恵技研工業株式会社 ,  国立大学法人 岡山大学
代理人 (1件)： 特許業務法人IPRコンサルタント
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-046012
公開番号（公開出願番号）：特開2021-147249
出願日： 2020年03月17日
公開日（公表日）： 2021年09月27日
要約：

【課題】可視光に対して極めて低い反射率を示す優れた耐光性及び耐候性を有する光吸収材料であって、従来の光吸収材料を用いた場合以上の黒色化を達成できる光吸収材料、及びその効率的な製造方法を提供する。【解決手段】グラフェンからなる膜状炭素構造体であり、グラフェンは板状集合体を構成し、 当該板状集合体は、膜状炭素構造体の膜厚方向に対して略水平で、板状集合体の板面はランダムな向きとなっており、膜状炭素構造体は金属元素を含まないこと、を特徴とする光吸収材料。膜状炭素構造体の可視光〜赤外線(波長:250〜3000nm)の反射率が1%以下であることが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

グラフェンからなる膜状炭素構造体であり、前記グラフェンは板状集合体を構成し、前記板状集合体は基板面鉛直に対して様々な方位を持つことから、全方位を示す向きとなっており、前記膜状炭素構造体は金属元素を含まないこと、を特徴とする光吸収材料。

IPC (5件)：

C01B 32/188 ,  G02B 5/22 ,  B82Y 20/00 ,  B82Y 40/00 ,  C09K 3/00

FI (5件)：

C01B32/188 ,  G02B5/22 ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00 ,  C09K3/00 105

Fターム (23件)：

2H148CA05 ,  2H148CA09 ,  2H148CA12 ,  2H148CA13 ,  2H148CA14 ,  4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC01A ,  4G146AC16A ,  4G146AC30A ,  4G146AC30B ,  4G146AD05 ,  4G146AD40 ,  4G146BA01 ,  4G146BC10 ,  4G146BC16 ,  4G146BC23 ,  4G146DA03 ,  4G146DA16 ,  4G146DA22 ,  4G146DA26 ,  4G146DA40 ,  4G146DA48

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 炭素ナノ構造体の生成方法及び炭素ナノ構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-222786   出願人：国立大学法人岡山大学, 学校法人龍谷大学
• 低反射グラフェン、光学部材用低反射グラフェン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-104186   出願人：尾池工業株式会社, 国立研究開発法人産業技術総合研究所