特許
J-GLOBAL ID：202103020432661930
ヒドロシランの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
平川 明
, 佐貫 伸一
, 石丸 竜平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-013123
公開番号（公開出願番号）：特開2018-118941
特許番号：特許第6945829号
出願日： 2017年01月27日
公開日（公表日）： 2018年08月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 イットリウム原子(Y)、ジルコニウム原子(Zr)、及びハフニウム原子(Hf)からなる群より選択される少なくとも1種の原子を中心金属とする錯体の存在下、下記式(a)で表される構造を有するアルコキシシランと、ヒドロボラン及び/又は水素とを反応させて下記式(c)で表される構造を有するヒドロシランを生成する反応工程を含み、
前記錯体が、式(L)で表されるイオン、(トリメチルシリル)メチルアニオン(-CH2SiMe3)、又はベンジルアニオン(-CH2Ph)を有し、
前記錯体の使用量が前記式(a)で表される構造を有するアルコキシシランに対して物質量換算で、0.005倍以上、0.2倍以下であることを特徴とするヒドロシランの製造方法。
(式(a)中、Rは炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。)
(式(L)中、R5はそれぞれ独立して炭素原子数1〜8の炭化水素基、又は炭素原子数1〜10のトリアルキルシリル基を、iは0〜5の整数を表す。)
IPC (4件)：
C07F 7/08 ( 200 6.01)
, C07F 7/04 ( 200 6.01)
, B01J 31/22 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07F 7/08 C
, C07F 7/04 H
, B01J 31/22 Z
, C07B 61/00 300
