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J-GLOBAL ID：202202216003639485   整理番号：22A0825178

ダブルパルス電解によるシリカゲルの形成

The application of double-pulse electrolysis to the sol-gel deposition of silica gels

著者 (4件)： 吉岡朋彦 (岡山大) ,  浅田敏生 (岡山大) ,  片岡卓也 (岡山大) ,  早川聡 (岡山大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web)
巻： 34th  ページ： ROMBUNNO.3N21 (WEB ONLY)  発行年： 2021年08月16日 
JST資料番号： L2240C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電解 ,  *シリカゲル ,  ゾル-ゲル法 ,  *電解合成 ,  バイオセラミック ,  *結晶成長 ,  薄膜成長 ,  核形成 ,  *電着 ,  化学合成 ,  *パルス電解 ,  液相合成

分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  その他の無機化合物の結晶成長  (BK13060T) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (1件)： TEOS

タイトルに関連する用語 (2件)： パルス電解 ,  シリカゲル