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J-GLOBAL ID：202202232260496153   整理番号：22A1706243

バイナリマスクと位相シフトマスクで作製された高Q値ナノ共振器(II)

High-Q Silicon nanocavities fabricated with binary mask and phase-shift mask (II)

著者 (5件)： 桂正晃 (大阪府大 大学院) ,  太田雄士 (大阪府大 大学院) ,  高橋友基 (大阪府大 大学院) ,  岡野誠 (産業技術総合研) ,  高橋和 (大阪府大 大学院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 69th  ページ： ROMBUNNO.23p-P03-2  発行年： 2022年02月25日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 序論.我々は高Q値シリコンナノ共振器を用いた空間電荷センサやシリコンラマンレーザを開発してきた[1,2].これまでに,CMOS互換プロセスを用いて,平均Q値190万を有するナノ共振器の作製,超低閾値ラマンレーザの作製を報告している[3,4]...【本文一部表示】

シソーラス用語： *共振器 ,  格子定数 ,  標準偏差 ,  ケイ素 ,  露光 ,  Ramanレーザ ,  *Q値 ,  フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  *微小共振器 ,  CMOS ,  ヘテロ構造 ,  フッ化アルゴン ,  SOI基板
準シソーラス用語： *位相シフトマスク , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： その他の光デバイス  (BD06060O)

タイトルに関連する用語 (5件)： バイナリマスク ,  位相シフトマスク ,  作製 ,  Q値 ,  ナノ共振器