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J-GLOBAL ID：202202273225634954   整理番号：22A0132212

原子層堆積法を用いたCo成膜Si光学系のX線反射率評価

Evaluation of X-ray reflectivity of Co-coated Si optics prepared by atomic layer deposition

著者 (14件)： 福島碧都 (東京都大) ,  伊師大貴 (東京都大) ,  江副祐一郎 (東京都大) ,  石川久美 (東京都大) ,  内野友樹 (東京都大) ,  作田紗恵 (東京都大) ,  稲垣綾太 (東京都大) ,  上田陽功 (東京都大) ,  森下弘海 (東京都大) ,  関口るな (東京都大) ,  辻雪音 (東京都大) ,  村川貴俊 (東京都大) ,  沼澤正樹 (理研) ,  満田和久 (国立天文台)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 82nd  ページ： ROMBUNNO.10p-N206-1  発行年： 2021年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： 焼なまし ,...

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分類 (4件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  レーダ  (ND13010H) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (7件)： 原子層堆積法 ,  CO ,  成膜 ,  Si ,  光学系 ,  X線反射率 ,  評価