特許
J-GLOBAL ID：202203011869976954
シロキサンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人秀和特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-232345
公開番号（公開出願番号）：特開2019-099507
特許番号：特許第7016149号
出願日： 2017年12月04日
公開日（公表日）： 2019年06月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 イリジウム錯体の存在下、下記式(A-1)~(A-3)の何れかで表されるシラノールと下記式(B-1)~(B-2)の何れかで表されるヒドロシランを脱水素縮合させてSi-H基を有するシロキサンを生成する脱水素縮合工程(ただし、ホスフィン及び/又はホスファイトの存在下で行われるものを除く。)を含み、 前記イリジウム錯体が、クロロ(1,5-シクロオクタジエン)イリジウム(I)ダイマーである、シロキサンの製造方法。(式(A-1)~(A-3)中、R1はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基、ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基、又はハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子総数0~30のシリルオキシ基を表す。)(式(B-1)~(B-2)中、R2はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基、又はハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20のアルコキシ基を表す。)
IPC (4件)：
C07F 7/08 ( 200 6.01)
, B01J 31/22 ( 200 6.01)
, C07F 7/18 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07F 7/08 X
, B01J 31/22 M
, C07F 7/18 X
, C07B 61/00 300
