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J-GLOBAL ID：202302210711276245   整理番号：23A0283268

印刷法によるSi_3N_4光集積回路への集積のための高屈折率マイクロディスクの作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of High Refractive Index Microdisk for Integration into Si₃N₄ Optical Integrated Circuits by Printing Method

著者 (6件)： TOMISHIGE Yoshitaka (Kyushu Univ.) ,  HIRAMOTO Kota (Kyushu Univ.) ,  MIKAMI Yuya (Kyushu Univ.) ,  NASIR Abdul (Kyushu Univ.) ,  OKI Yuji (Kyushu Univ.) ,  YOSHIOKA Hiroaki (Kyushu Univ.)
資料名： 電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Record of Joint Conference of Electrical, Electronics and Information Engineers in Kyushu (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.08-1P-10  発行年： 2022年09月09日 
JST資料番号： L2200B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

本文一部表示： 1導入。ウィスペリング-ギャラリーモード(WGM)を形成するマイクロディスクと高品質因子があり,低モード体積が様々な材料や技術によって作製されることが報告されている。それらの中で,Si_3N_4光集積回路におけるマイクロディスクを,熱処理に...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： 凝集 ,  *屈折率 ,  熱処理 ,  励起 ,  *印刷 ,  被覆 ,  波長 ,  高分子 ,  パルスレーザ ,  クラスタ ,  化学蒸着 ,  インクジェット印刷 ,  導波路 ,  パターン形成 ,  ナノ粒子

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光集積回路 ,  集積 ,  高屈折率 ,  マイクロディスク ,  作製