Low-k層間絶縁膜の界面熱抵抗に与えるアニーリング処理の効果

文献

J-GLOBAL ID：202302234970534095 整理番号：23A2520369

Effects of Annealing on Thermal Boundary Resistance of Low-k Interlayer Dielectrics

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資料名：
巻： 70th ページ： ROMBUNNO.16p-A403-18 発行年： 2023年02月27日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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抗原・抗体・補体一般 , 固体デバイス製造技術一般

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