文献
J-GLOBAL ID:202302260868549691
整理番号:23A0204968
3次元積層型CMOSイメージセンサ向けCH4N分子イオン注入エピタキシャルシリコンウェーハの水素拡散挙動
Hydrogen diffusion behavior of CH4N-molecular-ion-implanted wafers for 3D stacked CMOS image sensors
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