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J-GLOBAL ID：202402232640731353   整理番号：24A1395259

尖端放電型プラズマCVD法を用いたダイヤモンド成長におけるCO2添加の影響評価

Effect of CO2 Addition on Diamond Growth Using a Pointed Discharge Plasma CVD Method

著者 (7件)： 桂健斗 (九大 大学院総合理工学府) ,  桂健斗 (産業技術総合研 九州セ) ,  笹栗優 (九大 大学院総合理工学府) ,  笹栗優 (産業技術総合研 九州セ) ,  大曲新矢 (産業技術総合研 九州セ) ,  吉武剛 (九大 大学院総合理工学府) ,  蔭浦泰資 (産業技術総合研 九州セ)
資料名： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集(Web)  (Abstract Book. Asian Applied Physics Conference (Web))
巻： 49  ページ： 26 (WEB ONLY)  発行年： 2023年11月25日 
JST資料番号： U0757A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *ダイヤモンド ,  二酸化炭素 ,  半導体素子 ,  薄膜 ,  ダイヤモンド膜 ,  *鉱石 ,  *宝石
準シソーラス用語： ダイヤモンド薄膜 ,  パワーデバイス

分類 (2件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 尖端 ,  放電型プラズマ ,  CVD法 ,  ダイヤモンド ,  成長 ,  CO2 ,  影響評価