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J-GLOBAL ID：202402240096093557   整理番号：24A0610954

炭化水素分子イオン注入シリコンウェーハ表面における離散的アモルファス領域の再結晶化初期過程に関する解析

Recrystallization Initial Process of Discrete Amorphous Regions in Hydrocarbon Molecular Ion Implanted Silicon Wafer Surface

著者 (10件)： 小林弘治 (SUMCO) ,  小林弘治 (岡山県大 大学院) ,  奥山亮輔 (SUMCO) ,  門野武 (SUMCO) ,  柾田亜由美 (SUMCO) ,  廣瀬諒 (SUMCO) ,  鈴木陽洋 (SUMCO) ,  古賀祥泰 (SUMCO) ,  栗田一成 (SUMCO) ,  末岡浩治 (岡山県大 情報工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 84th  ページ： ROMBUNNO.19p-B201-2  発行年： 2023年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： エピタクシー ,...

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分類 (1件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N)

タイトルに関連する用語 (10件)： 炭化 ,  水素分子イオン ,  注入 ,  シリコン ,  ウェーハ表面 ,  アモルファス ,  再結晶化 ,  初期 ,  過程 ,  解析