特許

J-GLOBAL ID：202403004987921712

光吸収材料及びその製造方法

発明者： 古林 宏之 ,  池田 直 ,  狩野 旬 ,  青柳 佑海人
出願人/特許権者： 三恵技研工業株式会社 ,  国立大学法人 岡山大学
代理人 (1件)： 弁理士法人IPRコンサルタント
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-046012
公開番号（公開出願番号）：特開2021-147249
特許番号：特許第7498922号
出願日： 2020年03月17日
公開日（公表日）： 2021年09月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】膜状炭素構造体を分断した炭素構造体を含み、前記膜状炭素構造体は、グラフェンからなる膜状炭素構造体であり、前記グラフェンは板状集合体を構成し、前記グラフェンからなる前記板状集合体は前記膜状炭素構造体の膜厚方向に対して略水平に配列し、前記板状集合体は基板面鉛直に対して様々な方位を持つことから、全方位を示す向きとなっており、前記膜状炭素構造体は金属元素を含まず、前記膜状炭素構造体の可視光~赤外線(波長:250~2500nm)の反射率が1%以下であること、を特徴とする光吸収組成物。

IPC (5件)：

C01B 32/188 ( 201 7.01) ,  G02B 5/22 ( 200 6.01) ,  B82Y 20/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01) ,  C09K 3/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C01B 32/188 ,  G02B 5/22 ,  B82Y 20/00 ,  B82Y 40/00 ,  C09K 3/00 105

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 炭素ナノ構造体の生成方法及び炭素ナノ構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-222786   出願人：国立大学法人岡山大学, 学校法人龍谷大学
• 低反射グラフェン、光学部材用低反射グラフェン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-104186   出願人：尾池工業株式会社, 国立研究開発法人産業技術総合研究所