特許

J-GLOBAL ID：202403005920365404

洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 山田 翔太 ,  池田 直樹 ,  浅井 宏祐
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (3件)： 倉谷 泰孝 ,  松井 重明 ,  伊達 研郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：JP2023042217
特許番号：特許第7509334号
出願日： 2023年11月24日
要約：

【要約】 洗浄装置(100)は、超臨界流体が流通している超臨界流体流路(2a)内において、加熱部(4)と洗浄槽(1)との間に非超臨界状態の添加剤を輸送する添加剤輸送部(8)と、超臨界流体輸送部(3)が超臨界流体を輸送しているときに添加剤を輸送するように添加剤輸送部(8)を制御する制御部(6)を備える。これにより、超臨界流体原料とともに添加剤を加熱する必要がなくなるため、加熱時のエネルギー効率が向上する。また、加熱によって失活するような添加剤を用いた場合、加熱によって添加剤が失活することを防ぐことができる。したがって、被洗浄体の汚染物質の除去を効率よく行うことができる。

請求項（抜粋）：

【請求項1】 被洗浄体が収容される耐圧の洗浄槽と、 超臨界流体原料を供給する超臨界流体原料供給部と、 前記洗浄槽と前記超臨界流体原料供給部とを結び、前記超臨界流体原料が流通する超臨界流体流路と、 前記超臨界流体流路内において、前記超臨界流体原料を加圧し、前記超臨界流体原料を前記洗浄槽に輸送する超臨界流体輸送部と、 前記超臨界流体原料供給部と前記洗浄槽との間に配置される、前記超臨界流体原料を加熱して超臨界流体とする加熱部と、 少なくとも1種の成分からなり、超臨界状態ではない非超臨界状態である添加剤を供給する添加剤供給部と、 前記超臨界流体流路内における前記加熱部と前記洗浄槽との間と、前記添加剤供給部とを結び、前記添加剤が流通する添加剤流路と、 前記添加剤流路に設けられ、前記超臨界流体流路内において前記加熱部と前記洗浄槽との間に非超臨界状態の前記添加剤を輸送する添加剤輸送部と、 前記超臨界流体輸送部が前記超臨界流体を輸送しているときに、前記添加剤を輸送するように前記添加剤輸送部を制御する制御部と、 を備えることを特徴とする洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B 3/08 ( 200 6.01) ,  B08B 5/00 ( 200 6.01) ,  D06F 43/00 ( 200 6.01) ,  C01B 32/50 ( 201 7.01)

FI (4件)：

B08B 3/08 A ,  B08B 5/00 Z ,  D06F 43/00 Z ,  C01B 32/50