特許

J-GLOBAL ID：202403010675713934

反応性ケイ素基含有有機重合体の製造方法

発明者： ホ イング フ サムエル ,  山崎 康介 ,  砂山 佳孝 ,  中島 裕美子 ,  永縄 友規 ,  郭 海卿
出願人/特許権者： AGC株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 弁理士法人志賀国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2023-203168
公開番号（公開出願番号）：特開2024-095551
出願日： 2023年11月30日
公開日（公表日）： 2024年07月10日
要約：

【課題】ヒドロシリル化反応をより促進可能な反応性ケイ素基含有有機重合体の製造方法の提供。 【解決手段】第8族金属触媒、及び下式(1)で表されるジアミンの存在下で、不飽和基含有有機重合体とシリル化剤とを反応させる、下式(2)で表される反応性ケイ素基を有する、反応性ケイ素基含有有機重合体の製造方法。 [化1] TIFF 2024095551000012.tif 38 170 -SiR a X 3-a ・・・式(2) 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

第8族金属触媒、及び下式(1)で表されるジアミンの存在下で、不飽和基含有有機重合体とシリル化剤とを反応させる、下式(2)で表される反応性ケイ素基を有する、反応性ケイ素基含有有機重合体の製造方法。

IPC (3件)：

C08G 85/00 ,  C08G 65/336 ,  C08F 8/42

FI (3件)：

C08G85/00 ,  C08G65/336 ,  C08F8/42

Fターム (18件)：

4J005AA04 ,  4J005BD08 ,  4J031CD26 ,  4J100AL03P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL05R ,  4J100BA77H ,  4J100HA61 ,  4J100HC46 ,  4J100HC79 ,  4J100HC88 ,  4J100HC90 ,  4J100HC91 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41 ,  4J100JA03 ,  4J100JA44 ,  4J100JA67

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 遷移金属含有オルガノシロキサン、ヒドロシリル化法、オルガノポリキシロールオキサン組成物並びに遷移金属含有オルガノシロキサンの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-169676   出願人：ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
• ヒドロシリル化法及びそれを利用した硬化剤の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-308446   出願人：鐘淵化学工業株式会社
• 促進されたヒドロシリル化反応
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-545665   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ