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J-GLOBAL ID：202502257322099424   整理番号：25A0291650

垂直観測型エリプソメトリー顕微鏡によるナノインプリントリソグラフィー用UVレジストのナノしゅう動すきまでのせん断力増加機構の解明

Clarification of Mechanism of Shear-Force Increase in Nano-sliding gaps of UV Resist for Nanoimprint Lithography by Vertical-objective-type Ellipsometry Microscopy

著者 (9件)： 牧平樹生 (名古屋大 工) ,  SONG Yuxi (名古屋大) ,  加藤剛史 (名古屋大 工) ,  福澤健二 (名古屋大 工) ,  伊藤伸太郎 (名古屋大 工) ,  東直輝 (名古屋大 工) ,  ZHANG Hedong (名古屋大) ,  中川勝 (東北大) ,  縄田亮 (キヤノン)
資料名： 日本トライボロジー学会トライボロジー会議予稿集(Web)  (トライボロジー会議予稿集(Web))
巻： 2024  号： 秋  ページ： 412-413 (WEB ONLY)  発行年： 2024年10月21日 
JST資料番号： Y0047D  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *偏光解析法 ,  *顕微鏡 ,  *パターン転写 ,  *リソグラフィー ,  *剪断力 ,  レジスト ,  *間隙 ,  実験
準シソーラス用語： ナノインプリント

分類 (1件)： 潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (9件)： 垂直 ,  観測 ,  エリプソメトリー ,  顕微鏡 ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  レジスト ,  しゅう動 ,  すき ,  せん断力