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J-GLOBAL ID：202502288343513199   整理番号：25A0734651

SiCナノボイドアレイの作製と光学特性評価

Fabrication and optical characterization of SiC nanovoid arrays

著者 (3件)： 丸山紘矢 (京大 大学院) ,  村井俊介 (京大 大学院) ,  田中勝久 (京大 大学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 85th  ページ： ROMBUNNO.18p-A33-6  発行年： 2024年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 近年ナノフォトニクスにおいて、高屈折率誘電体ナノ構造に生じるMie共鳴を活用したMietronicsが注目を集めている。これまでSiの吸収波長帯が存在する可視域においては主にTiO2 (n=2.5)が利用されてきた。3C-SiCはTiO2よ...【本文一部表示】

シソーラス用語： 結晶構造 ,  消光 ,  誘電体 ,  *ケイ素 ,  *炭化ケイ素 ,  光学素子 ,  スピンコーティング ,  シリコンウエハ ,  ガラス基板 ,  *ナノボイド ,  二酸化チタン ,  Mie共鳴
準シソーラス用語： ナノインプリント ,  ナノフォトニクス ,  消衰係数 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiC ,  ナノボイド ,  アレイ ,  作製 ,  光学特性評価