特許

J-GLOBAL ID：202503010488858764

ヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法およびヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物

発明者： 佐藤 一彦 ,  中島 裕美子 ,  田中 真司 ,  内田 博 ,  石原 吉満
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  株式会社レゾナック
代理人 (7件)： 及川 周 ,  荒 則彦 ,  勝俣 智夫 ,  及川 周 ,  荒 則彦 ,  勝俣 智夫 ,  眞島 竜一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-215408
公開番号（公開出願番号）：特開2021-107388
特許番号：特許第7682464号
出願日： 2020年12月24日
公開日（公表日）： 2021年07月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(6)で示されるヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法であって、溶媒の存在下で、下記一般式(3)で示されるカルバミン酸エステルと下記一般式(4)で示されるカルバミン酸エステルの環化体のいずれか一方または両方と、下記一般式(5)で示されるピラゾール環を含むブロック化剤とを反応させることにより、下記一般式(6)で示される化合物を合成する第1工程を含むことを特徴とするヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法。(式(3)において、R1は-CH3、-CH2-CH3を示す。式(3)、式(4)および式(6)において、R2は炭素原子数2~6の直鎖状アルキレン基または炭素原子数4~6のシクロアルキレン基を示す。式(5)および式(6)において、R3およびR5はそれぞれ-H、-CH3または-CH2-CH3のいずれかを示し、R4は-Hを示す。式(5)において、Xは水素原子、アルカリ金属原子のいずれかを示す。)

IPC (1件)：

C07D 231/12 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C07D 231/12 CSP E