文献
J-GLOBAL ID：200902163771941654   整理番号：98A0253197

Range and damage distribution in cluster ion implantation.

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著者 (7件)：
YAMADA I

YAMADA I について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について

, 
MATSUO J

MATSUO J について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について

, 
JONES E C

JONES E C について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について

, 
TAKEUCHI D

TAKEUCHI D について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について

, 
AOKI T

AOKI T について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について

, 
GOTO K

GOTO K について

(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)

Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN について

, 
SUGII T

SUGII T について

(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)

Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN について


資料名：
Materials Modification and Synthesis by Lon Beam Processing  (Materials Modification and Synthesis by Lon Beam Processing)

Materials Modification and Synthesis by Lon Beam Processing について


ページ： 363-374  発行年： 1997年 
JST資料番号： K19980061  ISBN： 1-55899-342-8  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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