特許
J-GLOBAL ID：200903043416721323

水素製造用触媒と、その製造方法。

発明者：
佐郷 文昭

佐郷 文昭 について

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瀧田 祐作

瀧田 祐作 について

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永岡 勝俊

永岡 勝俊 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-073746
公開番号（公開出願番号）：特開2007-136445
出願日： 2006年03月17日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：
【課題】本発明は水素製造用触媒活性成分が活性低下の原因となるシンタリングやコーキングを抑制し、かつ高活性を有するための水素製造用触媒とその製造方法を提供する。【解決手段】チタニウムとジルコニウムを含みこれらに対するチタニウムのモル比が5〜75%でジルコニウムのモル比が25〜95%の非晶質相酸化物又は複合酸化物からなり、細孔径分布のピークが3nm以上30nm以下の範囲にある多孔質体を担体とし、担体中に希土類もしくは珪素を含有し、そのガス接触面に触媒活性金属を担持し、前記多孔質体と前記触媒活性金属に対する前記触媒活性金属の含有重量%を1〜30%にしてなることを特徴とする水素製造用触媒とその製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
チタニウムとジルコニウムを含みこれらに対するチタニウムのモル比が5〜75%でジルコニウムのモル比が25〜95%の非晶質相酸化物又は複合酸化物からなり、細孔径分布のピークが3nm以上30nm以下の範囲にある多孔質体を担体とし、そのガス接触面に触媒活性金属の粒子を担持し、前記多孔質体と前記触媒活性金属に対する前記触媒活性金属の含有重量%を1〜30%にしてなることを特徴とする水素製造用触媒。
IPC (9件)：
B01J 23/755 ,  B01J 23/76 ,  C01B 3/40 ,  B01J 35/10 ,  B01J 37/00 ,  B01J 37/04 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/12 ,  B01J 37/16
FI (9件)：
B01J23/74 321M ,  B01J23/76 M ,  C01B3/40 ,  B01J35/10 301G ,  B01J37/00 ,  B01J37/04 102 ,  B01J37/08 ,  B01J37/12 ,  B01J37/16
Fターム (67件)：
4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EC02 ,  4G140EC04 ,  4G140EC08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169AA12 ,  4G169BA21C ,  4G169BA27C ,  4G169BA37 ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BB08C ,  4G169BB10C ,  4G169BB12C ,  4G169BB20C ,  4G169BC40A ,  4G169BC40B ,  4G169BC40C ,  4G169BC41A ,  4G169BC41B ,  4G169BC41C ,  4G169BC42A ,  4G169BC42B ,  4G169BC42C ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC43C ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC50C ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC51C ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC68C ,  4G169BD01C ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169BD05C ,  4G169BD06C ,  4G169BD12C ,  4G169BD15C ,  4G169BE06C ,  4G169BE08C ,  4G169BE11C ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EC14X ,  4G169EC14Y ,  4G169EC15X ,  4G169EC15Y ,  4G169EC26 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB18 ,  4G169FB29 ,  4G169FB57 ,  4G169FC08 ,  4G169FC10 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027DD05
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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