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J-GLOBAL ID：201002202803209701   整理番号：10A1456671

架橋ポリシルセスキオキサンから熱活性化プロセスによらない階層的多孔質カーボンモノリス

Hierarchically porous carbon monoliths with high surface area from bridged polysilsesquioxanes without thermal activation process

著者 (4件)： HASEGAWA George (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KANAMORI Kazuyoshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKANISHI Kazuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  HANADA Teiichi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 46  号： 42  ページ： 8037-8039  発行年： 2010年11月14日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリエチレンオキシド-ポリプロピレンオキシド共重合体共存下4,4′-ビス(トリエトキシシリル)-1,1′-ビフェニルの溶媒熱処理/ゲルの水熱処理により製造した架橋ポリシルセスキオキサンの熱分解により生成するカーボン/シリカ複合物からナノサイズのシリカ相をアルカリ溶解除去して高表面積(>1500m²/g)の多孔質階層構造カーボンモノリスを製造した。X線回折,元素分析,エネルギー分散X線分光分析,Ramanスペクトル,走査電子顕微鏡,細孔径分布によりキャラクタリゼーションを行った。

シソーラス用語： *炭素 ,  *多孔質体 ,  ポリシルセスキオキサン ,  架橋【高分子】 ,  共重合体 ,  ポリエチレンオキシド ,  ポリプロピレンオキシド ,  芳香族化合物 ,  ゲル ,  熱処理 ,  熱分解 ,  複合体 ,  *ナノ構造 ,  階層構造 ,  溶出 ,  X線回折 ,  元素分析 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  Ramanスペクトル ,  走査電子顕微鏡 ,  細孔径分布 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *カーボン ,  *ナノハイブリッド ,  ビフェニル誘導体 ,  モノリス ,  水熱処理

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (1件)： 4,4′-ビス(トリエトキシシリル)-1,1′-ビフェニル

タイトルに関連する用語 (7件)： 架橋 ,  ポリシルセスキオキサン ,  熱活性化 ,  プロセス ,  多孔質 ,  カーボン ,  モノリス