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J-GLOBAL ID:201302245882652421   整理番号:13A0652109

デスクトップDRIEを用いたチタニウム微細加工

著者 (8件):
資料名:
巻: 4th  ページ: 233-234  発行年: 2012年10月21日 
JST資料番号: L8358A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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本研究では,デスクトップ型DRIE装置を用いたチタンの微細加工及びそれによるマイクロ構造体の作製について報告する。本材料のエッチングには,小型装置に有利な超高速排気特性が不可欠であることを示すとともに,微量のエッチングガス(SF6)で,0.2μm/min以上のエッチング速度が得られることが示された。本法では,機械特性,耐食性に優れ,MEMS用材料として利用が期待されるチタンの立体的な貫通加工が可能であり,アクチュエータ,電気化学電極などのチタニウム製マイクロ構造体作製への応用が期待できる。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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