特許

J-GLOBAL ID：201303033917773096

グラフェンナノリボン及びグラフェンナノリボンの化学修飾方法

発明者： 高口 豊 ,  田嶋 智之 ,  福間 智彦
出願人/特許権者： 国立大学法人 岡山大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-012684
公開番号（公開出願番号）：特開2013-151387
出願日： 2012年01月25日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
要約：

【課題】化学修飾が困難なグラフェンナノリボンを容易に化学修飾できる方法、及び高修飾率で化学修飾されたグラフェンナノリボンを提供する。【解決手段】グラフェンナノリボンの化学修飾は、エッジ部分の炭素がカルボキシル基で修飾されているグラフェンナノリボンのカルボキシル基とエステル反応させて化学修飾するものであって、カルボキシル基で修飾されているグラフェンナノリボンと、ボキシル基とエステル反応するヒドロキシル基を有する修飾体と、4-(4,6-ジメトキシ-1,3,5-トリアジン-2-yl)-4-メチルモルフォリニウム クロライド n-ハイドレートとを溶液中で撹拌混合することにより行う。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

エッジ部分の炭素がカルボキシル基で修飾されているグラフェンナノリボンの前記カルボキシル基とエステル反応させて化学修飾する方法であって、 前記カルボキシル基で修飾されているグラフェンナノリボンと、 前記ボキシル基とエステル反応するヒドロキシル基を有する修飾体と、 4-(4,6-ジメトキシ-1,3,5-トリアジン-2-yl)-4-メチルモルフォリニウム クロライド n-ハイドレートと を溶液中で撹拌混合することにより行うグラフェンナノリボンの化学修飾方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101Z

Fターム (7件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146CB10 ,  4G146CB13 ,  4G146CB21 ,  4G146CB26 ,  4G146CB35

引用特許：

審査官引用 (2件)

• カーボンナノチューブ分散液およびカーボンナノチューブ構造体の製造方法、並びにカーボンナノチューブ構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-266747   出願人：富士ゼロックス株式会社
• カーボンナノチューブ分散液およびカーボンナノチューブ塗膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-201341   出願人：日立マクセル株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Immobilizing Shortened Single-Walled Carbon Nanotubes (SWNTs) on Gold Using a Surface Condensation