基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-040647
公開番号（公開出願番号）：特開2013-175681
特許番号：特許第5984424号
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガスクラスターを基板に照射することにより、基板に付着しているパーティクルを除去する基板洗浄方法において、基板に付着しているパーティクルについて粒径を含むパーティクル情報を取得する工程と、前記工程で取得されたパーティクル情報に基づいて、洗浄用のガスの原子または分子の集合体であるガスクラスターの粒径に係わる因子を調整する工程と、その後、基板の置かれる処理雰囲気よりも圧力の高い領域から、処理雰囲気に前記洗浄用のガスを吐出し、断熱膨張により前記ガスクラスターを生成させる工程と、前記ガスクラスターを基板の表面に垂直に照射してパーティクルを除去する工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (1件)：