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文献
J-GLOBAL ID:201902278863576357   整理番号:19A1866780

配位不飽和サイトを有するナノポーラス金属錯体による希薄硫黄ガスの吸着除去

著者 (7件):
資料名:
巻: 99th  ページ: ROMBUNNO.1C1-47  発行年: 2019年03月01日 
JST資料番号: S0493B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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ナノポーラス金属錯体(MOF)は金属イオンと有機配位子により形成され,細孔サイズや形状,表面の性質を自在に制御可能である。従来材料と異なり,構造中にて金属イオンが原子レベルで存在するため,吸着性能の向上が期待できる。本研究では,燃料電池システムでの応用を見据え,希薄な難吸着性硫黄成分ジメチルスルフィドを対象に,HKUST-1(Cu(II)及びトリメシン酸)を用いたところ,従来材料と比較して3倍程度高性能であり,その吸着状態をラマン分光等により明らかにする。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (3件):
分類
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第11族,第12族元素の錯体  ,  物理的手法を用いた吸着の研究  ,  吸着剤 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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