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J-GLOBAL ID：202002227927167112   整理番号：20A0640515

配位不飽和銅イオンを有するナノポーラス金属錯体による希薄硫黄分子吸着

著者 (7件)： 米津章 (名大 院) ,  森田将司 (名大 院) ,  森田将司 (パナソニック) ,  日下心平 (名大 院) ,  堀彰宏 (名大 院) ,  馬運声 (名大 院) ,  松田亮太郎 (名大 院)
資料名： 日本吸着学会研究発表会講演要旨集
巻： 33rd  ページ： 68  発行年： 2019年11月14日 
JST資料番号： L8217A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 希薄成分を除去する技術は産業・生活環境の面で重要であるが、不純物の除去や分離には大量のエネルギーが消費されているため、効率的に低エネルギーで分離する材料や技術の開発が求められている。都市ガスから付臭成分を吸着除去する技術はその一つといえる。...【本文一部表示】

シソーラス用語： 金属イオン ,  銅化合物 ,  *ナノ材料 ,  金属錯体 ,  *硫黄 ,  *吸着 ,  *銅錯体 ,  *包接化合物 ,  配位高分子 ,  カルボン酸塩 ,  脱硫 ,  窒素複素環化合物 ,  架橋化合物 ,  芳香族カルボン酸 ,  ジカルボン酸 ,  脂肪族化合物 ,  スルフィド
準シソーラス用語： HKUST-1 ,  MOF【配位高分子】 ,  *ナノポーラス体 ,  銅イオン ,  *分子吸着

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  分子化合物  (CE02000C)

物質索引 (4件)： 1,3,5-ベンゼントリカルボン酸 ,  1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン ,  1,4-ベンゼンジカルボン酸 ,  ジメチルスルフィド

タイトルに関連する用語 (6件)： 不飽和 ,  銅イオン ,  ナノポーラス ,  金属錯体 ,  硫黄 ,  分子吸着