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J-GLOBAL ID：202102276486744341   整理番号：21A1700199

半導体洗浄装置内に発生する渦構造についての検討

A study of vortical structures occurring in a semiconductor wafer cleaner

著者 (4件)： 河内俊憲 (岡山大 大学院) ,  青山翼 (岡山大 大学院) ,  永田靖典 (岡山大 大学院) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大 大学院)
資料名： 日本機械学会流体工学部門講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 97th  ページ： ROMBUNNO.OS10-10  発行年： 2019年11月06日 
JST資料番号： L0394B  ISSN： 1348-2882  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製造における洗浄方式として,“枚葉式洗浄”と呼ばれるウエハを1枚ずつ洗浄する方式が主流である.この洗浄方法では円板の回転数,ダウンフローの影響により洗浄機内の空気の流れが乱れ,装置内に大規模な渦が発生することが分かっている.この渦に乗って回転で振り切られた超純水のミストや微小パーティクルがウエハに再付着する恐れがある.これは半導体の品質に大きく影響するため防ぐ必要がある.そこで本研究では,渦構造・渦発生抑制方法の研究を実機をモデル化したものの数値解析を行った.(著者抄録)

シソーラス用語： *半導体 ,  *洗浄装置 ,  ウエハ【IC】 ,  空気流 ,  流れ特性 ,  乱流 ,  *流れ構造 ,  *渦 ,  超純水 ,  ミスト ,  数値解析
準シソーラス用語： 乱れ特性 ,  *渦構造

分類 (2件)： 集塵  (XD02100D) ,  層流,乱流,境界層  (BC02030C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 洗浄装置 ,  渦構造