研究者
J-GLOBAL ID:200901018787360097
更新日: 2019年11月13日
越川 孝範
コシカワ タカノリ | Koshikawa Takanori
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所属機関・部署:
大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所
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職名:
名誉教授
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
重慶大学
客員教授
研究分野 (4件):
応用物理一般
, ナノバイオサイエンス
, ナノ材料科学
, 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (30件):
銅
, 水素終端シリコン表面
, 光電子顕微鏡
, 水素終端
, 低エネルギー電子顕微鏡
, 表面構造
, 仕事関数
, 光電子回折
, イオン化
, ナノ計測
, ナノ材料
, 2次イオン
, 水素介在効果
, ナノ表面界面
, 仕事関数顕微鏡
, ナノ構造
, 表面・界面物性
, 高輝度電子銃
, アルカリ
, 結晶成長
, 放射光
, 高分解能深さ方向分析
, スパッターリング
, 極微構造
, LEEM
, 表面拡散
, シリコン(111)
, シリコン成長
, 解析・評価
, SIMS
学位 (1件):
工学博士 (大阪大学)
経歴 (1件):
大阪電気通信大学 工学部 教授
受賞 (1件):
2011/11 - 材料科学技術振興財団 山崎貞一賞
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