研究者
J-GLOBAL ID:200901042204399509
更新日: 2022年09月29日
池澤 俊治郎
イケザワ シュンジロウ | Ikezawa Shunjiro
所属機関・部署:
中部大学 工学部 電子情報工学科
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職名:
教授
研究分野 (3件):
電子デバイス、電子機器
, プラズマ科学
, プラズマ応用科学
研究キーワード (4件):
電子デバイス・機器工学
, プラズマ理工学
, Electron Device and Apparatus Engineering
, Plasma Science and Technology
競争的資金等の研究課題 (6件):
EBEP装置によるプロセスプラズマ粒子の選択性とその場制御
電子ビームのプラズマシース電位への影響
表面波プラズマにおける新しい展開
Selective and In-Situ Controlled Processing Plasmas Particles by EBEP and Q-Mass and Optical Measurements
Influence of Electron Beam on Plasma Sheath Potential
New Developments of Surface Wave Produced Plasma
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MISC (45件):
Industrial Application of TiO2 and TiN Films Deposited by EBEP. Proc. of International Sym, on Dry Process. 2002. 159-164
Large Area Electron-Beam-Excited Plasma of Meter Size for Industrial Applications. Vacuum. 2002. 66, 203-207
Industrial Application of TiO2 and TiN Films Deposited by EBEP. Proc. of International Sym, on Dry Process. 2002. 159-164
Large Area Electron-Beam-Excited Plasma of Meter Size for Industrial Applications. Vacuum. 2002. 66, 203-207
Application of TiO
2
Film for Environmental Purification Deposited by Controlled Elecctron-Beam-Excited Plasma. Thin Solid Film. 2001. 386, 173-176
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特許 (1件):
プラズマ発生用アンテナ・プラズマ処理装置, プラズマ処理方法, 及び被処理物の製造方法, 並びに半導体装置の製造方法 特願2000-279955
書籍 (2件):
高密度プラズマ応用プロセス技術(第1章 プラズマプロセスの基礎(P1-26)執筆)
(株)リアライズ社 1993
電波工学概説
(株)森北出版 1989
Works (2件):
電子ビーム励起プラズマを用いた新機能材料創製プロセスの開発
2000 -
Development of New Material Process Using Electron Beam-Excited Plasma
2000 -
学位 (1件):
工学博士
委員歴 (4件):
1996 - 1997 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス幹事
1992 - 1994 プラズマ・核融合学会 編集委員・第11回年会実行委員長
1991 - 1992 電気学会 東海支部若手セミナー代表
1989 - 1991 日本物理学会 分科の世話人
所属学会 (5件):
応用物理学会
, 電子情報通信学会
, プラズマ・核融合学会
, 日本物理学会
, 電気学会
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