研究者
J-GLOBAL ID:200901049896678709   更新日: 2022年10月27日

西尾 弘司

ニシオ コウジ | Nishio Koji
所属機関・部署:
職名: 助教
ホームページURL (1件): http://atomic.es.kit.ac.jp/~knishio/
研究分野 (5件): 薄膜、表面界面物性 ,  磁性、超伝導、強相関系 ,  半導体、光物性、原子物理 ,  ナノバイオサイエンス ,  ナノ材料科学
研究キーワード (6件): 電子顕微鏡法 ,  結晶成長 ,  結晶構造 ,  Electron microscopy ,  Crystal growth ,  Crystal structure
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 半導体材料のナノ構造解析
  • 電子顕微鏡像の定量的解析に関する研究
  • 非晶質材料の電子顕微鏡法による研究
  • 微細粒子の成長機構及び構造に関する研究
  • nano-structural analysis of semiconductor materials
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論文 (13件):
  • N. Tatemizo, S. Imada, K. Nishio, T. Isshiki. Wurtzite [11-20]-oriented AlFeN films prepared by RF sputtering. AIP Advances. 2018. 8. 11
  • Nobuyuki Tatemizo, Yoshio Miura, Koji Nishio, Shun Hirata, Fumihiro Sawa, Kazutoshi Fukui, Toshiyuki Isshiki, Saki Imada. Band structure and photoconductivity of blue-green light absorbing AlTiN films. JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A. 2017. 5. 39. 20824-20832
  • Nobuyuki Tatemizo, Saki Sonoda, Koji Nishio, Toshiyuki Isshiki. Crystallographic Properties of 3d Transition Metal (Ti, V, and Cr) doped AlN films. 2016 COMPOUND SEMICONDUCTOR WEEK (CSW) INCLUDES 28TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE & RELATED MATERIALS (IPRM) & 43RD INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON COMPOUND SEMICONDUCTORS (ISCS). 2016
  • Noriyuki Hasuike, Koji Nishio, Kenji Kisoda, Hiroshi Harima. Room Temperature Growth of Al-Doped ZnO Thin Films by Reactive DC Sputtering Technique with Metallic Target. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2013. 52. 1
  • Noriyuki Hasuike, Tomoe Harada, Toru Kiyohara, Koji Nishio, Kenji Kisoda, Hiroshi Harima. Low temperature synthesis of ZnO thin films by spin-coating technique. PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 8, NO 2. 2011. 8. 2
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MISC (107件):
  • N. Tatemizo, S. Imada, Y. Miura, K. Nishio, T. Isshiki. Crystallographic properties and electronic structure of V-doped AlN films that absorb near ultraviolet-visible-infrared light. Journal of Applied Physics. 2018. 123
  • Nobuyuki Tatemizo, Saki Imada, Yoshio Miurac, Koji Nishio, Toshiyuki Isshiki. Chemical trend in band structure of 3d-transition-metal-doped AlN films. Materials Science Forum. 2018. 924 MSF. 322-325
  • N. Tatemizo, S. Imada, Y. Miura, K. Nishio, T. Isshiki. Crystallographic and electronic properties of AlCrN films that absorb visible light. AIP ADVANCES. 2017. 7. 5
  • Hasuike Noriyuki, Nishio Koji, Kisoda Kenji. Room Temperature Growth of Al-Doped ZnO Thin Films by Reactive DC Sputtering Technique with Metallic Target (Special Issue : Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials). Japanese journal of applied physics : JJAP. 2013. 52. 1. 01AC09-1-4
  • K. Takahiro, Y. Minakuchi, K. Kawaguchi, T. Isshiki, K. Nishio, M. Sasase, S. Yamamoto, F. Nishiyama. Well-ordered arranging of Ag nanoparticles in SiO2/Si by ion implantation. Applied Surface Science. 2012. 258. 7322-7326
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Works (1件):
  • 高機能高分子複合膜の微細構造解析法の開発
    2004 - 2005
学位 (1件):
  • 博士(学術) (京都工芸繊維大学)
所属学会 (6件):
応用物理学会 ,  日本顕微鏡学会 ,  日本物理学会 ,  The Japan Society of Applied Physics ,  The Japanese Society of Microscopy ,  The Physical Society of Japan
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