研究者
J-GLOBAL ID:200901051619704110   更新日: 2024年11月19日

渡辺 正裕

ワタナベ マサヒロ | Watanabe Masahiro
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (1件): 電気電子材料工学
競争的資金等の研究課題 (4件):
  • Study on Quantum Photonic and Electron Devices
  • Study on Epitaxial growth of heterostructures on Silicon substrate
  • 量子効果光電子デバイスに関する研究
  • シリコン基板上へのヘテロ構造エピタキシャル成長に関する研究
論文 (62件):
  • Gensai Tei, Yohei Koyanagi, Long Liu, Masahiro Watanabe. Near-infrared (λ ∼ 1.2 μm) intersubband electroluminescence in Si/CaF2 quantum cascade structures. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. 7. 072004-072004
  • Gensai TEI, Long LIU, Masahiro WATANABE. Design and Analysis of Si/CaF2 Near-Infrared (λ∼1.7μm) DFB Quantum Cascade Laser for Silicon Photonics. IEICE Transactions on Electronics. 2023. E106.C. 5. 157-164
  • Long LIU, Gensai TEI, Masahiro WATANABE. Design, Fabrication, and Evaluation of Waveguide Structure Using Si/CaF2 Heterostructure for Near- and Mid- Infrared Silicon Photonics. IEICE Transactions on Electronics. 2023. E106.C. 1. 1-6
  • Gensai Tei, Long Liu, Yohei Koyanagi, Masahiro Watanabe. Room temperature near-infrared electroluminescence of Si/CaF2 quantum cascade laser structures grown on an SOI substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2021. 60. SB. SBBE03-SBBE03
  • Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Hiroki Tonegawa, Kizashi Mikami, Kodai Hirose, Kanta Tomizawa, Kensuke Ichikawa, Masahiro Watanabe. Negative differential resistance of CaF2/Si double barrier resonant tunneling diodes fabricated using plasma etching mesa isolation process. Japanese Journal of Applied Physics. 2020. 59. SI. SIIE03-SIIE03
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MISC (5件):
  • 渡辺 正裕, 田村 信平, 金澤 徹, 自念 圭輔, 浅田 雅洋. ローカルエピタキシー法によるCoSi_2/CaF_2三重障壁共鳴トンネルダイオードの微分負性抵抗特性. 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス. 2005. 104. 622. 7-10
  • 渡辺 正裕, 金澤 徹, 自念 圭輔, 浅田 雅洋. Si(100) 基板上に形成されたCdF_2/CaF_2超ヘテロ構造による共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性. 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス. 2004. 103. 631. 25-28
  • 渡辺 正裕, 石川 達也, 松田 克己, 金澤 徹, 浅田 雅洋. ナノ領域成長によるSi(111)及びSi(100)基板上CdF_2/CaF_2共鳴トンネルダイオード. 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス. 2002. 101. 618. 65-70
  • 渡辺 正裕, 筒井 将史, 浅田 雅洋. Si-CaF_2及びCdF_2-CaF_2ヘテロ接合を用いたシリコン基板上共鳴トンネルダイオード. 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス. 2000. 99. 618. 73-78
  • 渡辺 正裕, 末益 崇, 浅田 雅洋. 金属/絶縁体ヘテロ接合電子デバイス. 應用物理. 1994. 63. 2. 124-131
講演・口頭発表等 (70件):
  • TCAD simulation of trench-gate IGBTs for prediction of carrier lifetime requirements for future scaled devices
    (2021 IEEE 14th International Conference on ASIC (ASICON 2021) 2021)
  • Accurate TCAD simulation of trench-gate IGBTs and its application to prediction of carrier lifetime requirements for future scaled devices
    (The 5th IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM2021) 2021)
  • Impact of three-dimensional current flow on accurate TCAD simulation for trench-gate IGBTs
    (The 31st IEEE International Symposium on Power Semiconductor Devices and Ics 2019)
  • Pulsed operation of resistance switching memory of Si/CaF_2_/CdF_2_ resonant-tunneling quantum-well structures
    (The 2013 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2013), A-8-4 2013)
  • Near Infrared (λ~1.5μm) Room Temperature Electroluminescence from Si/CaF_2_ Intersubband Transition Laser Structures Grown on Silicon-on-Insulator Substrate
    (18th International Conference on Electron Dynamics in Semiconductors, Optoelectronics, and Nanostructures (EDISON18), TH3-5 2013)
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学歴 (3件):
  • 1988 - 1993 東京工業大学 理工学研究科 電子物理工学専攻
  • - 1993 東京工業大学
  • 1984 - 1988 東京工業大学 工学部 電気電子工学
学位 (1件):
  • 工学博士 (東京工業大学)
経歴 (4件):
  • 1995 - -:
  • 1995 - -:東京工業大学 助教授
  • 1993 - -:
  • 1993 - -:東京工業大学 助手
委員歴 (1件):
  • 電子情報通信学会 和文論文誌編集委員
受賞 (4件):
  • 2006/04 - 文部科学省 文部科学大臣表彰 科学技術賞 理解増進部門
  • 2004 - 東京工業大学 平成16年度「東工大挑戦的研究賞」
  • 2002 - 財団法人丸文研究交流財団 丸文研究奨励賞
  • 1994 - 東京電機大学 丹羽保次郎記念論文賞
所属学会 (2件):
応用物理学会 ,  電子情報通信学会
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