荒井俊彦

アライトシヒコ | Arai Toshihiko

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (4件)：電子デバイス、電子機器 , 電力工学 , プラズマ科学 , プラズマ応用科学

研究キーワード (4件)：プラズマ診断 , プラズマプロセス , Plasma Diagnostics , Plasma Process

競争的資金等の研究課題 (12件)：

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MISC (47件)：

T Misu, M Goto, T Arai. Reactive ion etching of CVD diamond thin films in O-2/CF4 plasma. CZECHOSLOVAK JOURNAL OF PHYSICS. 2004. 54. SC. C1011-C1015
Reactive Ion etching of Diamond Films Using O₂/CF₄ Plasma with Narrow Electrode Gap. Proceedings of 26^th International on Phenomena in Ionized Gases, Greifswald, Germany. 2003. 137-138
Measurements of Hg Particle densities and Electron Temperature in Ar-Hg Discharge Plasma Under on Increased Pressure Ar and in Narrow Tube. Proceedings of 25^th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Nagoya, Japan. 2001. 263-264
Etching of Diamond Films by Reactive Ion Etching in O₂/CF₄ Plasma. Proceedings of 25^th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Nagoya, Japan. 2001. 143-144
Influence of Wall Heating on Surface Loss Probability for CF₂ Radical in CF₄ Hollow Cathode Discharge Plasma. Proceedings of 15^th International Symposium on Plasma Chemistry, Orleans, France. 2001. 1263-1266

書籍 (4件)：

学歴 (4件)：

学位 (2件)：

経歴 (2件)：

委員歴 (1件)：

所属学会 (3件)：

照明学会 , 電気学会 , 応用物理学会

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荒井 俊彦