中村典雄

ナカムラノリオ | Nakamura Norio

所属機関・部署：
職名：研究員

研究分野 (2件)：量子ビーム科学 , 素粒子、原子核、宇宙線、宇宙物理にする理論

研究キーワード (9件)：先端的放射光源加速器 , 次世代リソグラフィー用EUV-FEL光源 , 加速器産業応用 , 次世代放射光源 , エネルギー回収リニアック , 自由電子レーザー , 加速器 , 放射光 , ビーム物理

競争的資金等の研究課題 (21件)：

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論文 (301件)：

Norio Nakamura, Ryukou Kato, Hiroshi Sakai, Kimichika Tsuchiya, Yoshinori Tanimoto, Yosuke Honda, Miho Shimada, Masahiro Yamamoto, Takanori Tanikawa, Olga Tanaka, et al. Research and development of the EUV-FEL light source for lithography. Proceedings Volume 13177, Photomask Japan 2024: XXX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology; 131770L (2024). 2024
中村典雄. 非常に小さいモーメンタムコンパクション因子を持つ蓄積リングにおける横方向ビーム不安定性の解析的研究. 第21回日本加速器学会年会. 2024. 809-812
中村典雄. NEGコーティング真空パイプのインピーダンス解析とPF-HLSリングへの応用. 第21回日本加速器学会年会. 2024. 804-808
T. Obina, M. Adachi, S. Eguchi, K. Haga, K. Harada, N. Higashi, T. Honda, X. Jin, T. Kageyama, Y. Kobayashi, et al. Present status and future project of Synchrotron Light Sources at KEK. Proc. of IPAC2024. 2024. 1286-1289
H. Sakai, K. Harada, N. Higashi, Y. Honda, Y. Kamiya, Y. Morikawa, N. Nakamura, H. Shimizu, O. Tanaka, K. Umemori, et al. Conceptual design of the high-power electron beam irradiator using niobium-tin superconducting cavity. Journal of Physics: Conference Series. 2024. 2687. 092013

MISC (46件)：

曲慧, 石松完爾, 平戸利明, 東直, 高木秀彰, 中村典雄. 電子線照射したアスファルトのX線小角散乱法による評価結果. 土木学会全国大会第78回年次学術講演会(web). 2023
石松莞爾, 中村典雄. アスファルトへの電子線照射利用. 改質アスファルト. 2023. 61. 4-11
長橋進也, 内山隆司, 榎本嘉範, 岡安雄一, 佐藤政則, 中村典雄, 野上隆史, 原田健太郎, 東直, 本田融, et al. PF-ARにおける5GeVトップアップ運転実現のための電磁石設置. 日本加速器学会年会(Web). 2023. 20th
満田史織, 東直, 野上隆史, 長橋進也, 内山隆司, 原田健太郎, 中村典雄, 本田融, 佐藤政則, 岡安雄一, et al. PF-ARにおける5GeVトップアップ運転実現のための輸送路の改造. 日本加速器学会年会(Web). 2023. 20th
高木宏之, 満田史織, 本田融, 内山隆司, 坂中章悟, 佐々木洋征, 谷本育律, 内藤大地, 中村典雄, 長橋進也, et al. GeV領域エネルギー電子を使った測定器開発用テストビームラインのワイヤーターゲットがPF-ARの蓄積ビームおよび入射ビームに与える影響(2). 日本加速器学会年会(Web). 2023. 20th

書籍 (10件)：

講演・口頭発表等 (24件)：

EUV-FEL Light Source for Sustainable Lithography
(37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2024) 2024)
Research and development of the EUV-FEL light source for lithography
(Photomask Japan 2024 2024)
将来リソグラフィー用EUV-FEL光源
(第20回日本加速器学会年会 2023)
将来リソグラフィーのためのEUV-FEL光源
(第29回FELとHigh-Power Radiation研究会 2023)
Present state of the EUV-FEL light source for future lithography
(7th EUV-FEL Workshop 2023)

経歴 (7件)：

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受賞 (1件)：

所属学会 (2件)：

日本加速器学会 , 日本放射光学会

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中村 典雄