研究者
J-GLOBAL ID：200901083855590507   更新日: 2024年09月10日

霜垣 幸浩

シモガキ ユキヒロ | Shimogaki Yukihiro
所属機関・部署：
東京大学 大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻

東京大学 大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 について


職名： 教授
ホームページURL (1件)： http://www.dpe.mm.t.u-tokyo.ac.jp
研究分野 (2件)： 反応工学、プロセスシステム工学 ,  電子デバイス、電子機器
研究キーワード (2件)： デバイスプロセス ,  Device Process
競争的資金等の研究課題 (34件)：
  • 2010 - 2012 超臨界流体を利用したナノキャパシタ構造形成プロセスの構築
  • 2007 - 2007 超臨界流体を利用したULSIカーボンナノチューブ配線用ナノ触媒粒子の高密度合成
  • 2004 - 2006 高信頼性ULSI多層配線形成CVDプロセスの開発
  • 2005 - 2005 面積選択MOCVDを活用したInGaAsP化合物半導体結晶成長機構の解析とマイクロレーザアレイの作製
  • 2002 - 2004 半導体デジタル全光デバイス・集積回路の研究開発
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論文 (192件)：
  • Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Masahiro Koto, Hayato Kubo, Takanori Sugiyama, Takahito Tanibuchi, Momoko Deura, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. Theoretical study on gas-phase reactions during chemical vapor deposition of TixAl1-xN from TiCl4, AlCl3, and NH3. International Journal of Chemical Kinetics. 2024
  • Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. Atomic Layer Deposition of Cobalt Film from Dicobalt-hexacarbonyl-tert-butylacetylene and Hydrogen. ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2023. 12. 11. 114003-114003
  • Momoko Deura, Takuya Nakahara, Wan Chi Lee, Takeshi Momose, Yoshiaki Nakano, Masakazu Sugiyama, Yukihiro Shimogaki. Effect of layer structure of AlN interlayer on the strain in GaN layers during metal-organic vapor phase epitaxy on Si substrates. Journal of Applied Physics. 2023. 133. 16
  • Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. Kinetic Study on Heterogeneous Nucleation and Incubation Period during Chemical Vapor Deposition. The Journal of Chemical Physics. 2023. 158. 124704-1-12
  • Yuyuan Huang, Momoko DEURA, Yusuke Shimoyama, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose. Supercritical fluid deposition for conformal Cu film formation on sub-millimeter-scale structures used to fabricate terahertz waveguides. Applied Physics Express. 2022
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MISC (403件)：
  • 奥友則, 百瀬健, 霜垣幸浩, 出浦桃子. SiC/Si基板上に成長した窒化物半導体層内ボイドの形成メカニズム. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
  • 山口潤, 佐藤登, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩. CCTBAを用いたCo-ALDプロセスの検討. 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM). 2022. 53rd
  • 佐藤登, 根藤佳史, 大高雄平, 福島康之, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩. 理論的検討に基づいたSiC-CVIプロセスにおける炭素種の表面反応モデル構築. 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM). 2021. 86th
  • ZHANG Jin, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩. 非線形表面反応速度論における化学蒸着のためのマルチスケールシミュレーションフレームワーク【JST・京大機械翻訳】. 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM). 2021. 86th
  • 大高雄平, 佐藤登, 福島康之, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩. SiCf/SiC CMC合成のための排出ガス改質再利用を含むSiC含浸プロセスの提案. 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM). 2021. 52nd
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Works (6件)：
  • ULSI多層配線用バリアメタル形成CVDプロセスに関する研究
    2000 -
  • GSI微細構造制御を目指したドライプロセスの高度化
    2000 -
  • DRAMキャパシタ電極用バリアメタルCVDプロセスの開発
    2000 -
  • Kinetic study on barrier metal CVD for ULSI metallization
    2000 -
  • Development of Dry-process for fine structure control in Giga-Scale Integration
    2000 -
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学位 (1件)：
  • 博士(工学) (東京大学)
所属学会 (5件)：
ECS・IEEE・AVS・MRS ,  触媒学会 ,  日本セラミックス協会 ,  応用物理学会 ,  化学工学会
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