研究者
J-GLOBAL ID:201801015633901320
更新日: 2024年10月26日
鷺坂 恵介
sagisaka Keisuke
所属機関・部署:
競争的資金等の研究課題 (5件):
- 2022 - 2025 3d遷移金属と機能性配位子を利用した表面錯体形成メカニズムの解明
- 2017 - 2020 歪み場STMを用いたグラフェンの歪みと電子状態計測
- 2012 - 2015 シリコン表面に埋め込まれたリン原子の電子状態と相互作用
- 2009 - 2010 シリコン表面に分散した不純物原子の電荷状態
- 2007 - 2008 走査トンネル顕微鏡によるスピン分解局所状態密度の可視化
論文 (61件):
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安井 勇気, 松永 克志, 鷺坂 恵介, 杉本 宜昭. 原子間力顕微鏡によるNb(110)の酸化表面構造解析. 表面と真空. 2024. 67. 8. 276-380
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Yuuki Yasui, Katsuyuki Matsunaga, Keisuke Sagisaka, Yoshiaki Sugimoto. Element-selective structural visualization for the oxygen-induced surface of Nb(110). Physical Review B. 2024. 109. 19
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Shunsuke Yoshizawa, Keisuke Sagisaka, Hideaki Sakata. Visualization of Alternating Triangular Domains of Charge Density Waves in 2H-NbSe2 by Scanning Tunneling Microscopy. Physical Review Letters. 2024. 132. 5
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Yuya Hattori, Keisuke Sagisaka, Shunsuke Yoshizawa, Yuki Tokumoto, Keiichi Edagawa. Topological surface states hybridized with bulk states of Bi-doped PbSb2Te4 revealed in quasiparticle interference. Physical Review B. 2023. 108. 12
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Yuya Hattori, Shunsuke Yoshizawa, Keisuke Sagisaka, Yuki Tokumoto, Keiichi Edagawa, Takako Konoike, Shinya Uji, Taichi Terashima. Experimental verification of band convergence in Sr and Na codoped PbTe. Physical Review B. 2023. 108. 12
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MISC (7件):
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鷺坂 恵介, マルツ ミハエル, 藤田 大介, ボウラー デビッド. 26pPSB-31 Si(100)表面におけるリン分子の吸着構造(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2012. 67. 1. 963-963
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藤田 大介, 大西 桂子, 熊倉 つや子, 鷺坂 恵介. 27aXD-12 表面析出法により成長したグラファイト基底面上におけるカーボンナノワイヤとカーボンナノベルトの発見(ナノワイヤ・ナノチューブ,領域9(表面・界面, 結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2005. 60. 1. 882-882
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鷺坂 恵介, 藤田 大介. 26pXC-3 Si(100)再構成表面の電子状態とSTMイメージング(表面・界面構造(シリコン表面),領域9(表面・界面, 結晶成長)). 日本物理学会講演概要集. 2005. 60. 1. 869-869
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鷺坂 恵介, 藤田 大介, 小口 信行. 28pWP-11 走査トンネル顕微鏡によるSi(100)表面の構造操作(表面界面構造(半導体))(領域9). 日本物理学会講演概要集. 2004. 59. 1. 915-915
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鷺坂 恵介, 藤田 大介. 基底状熊におけるSi(100)表面の最安定構造. まてりあ : 日本金属学会会報. 2003. 42. 10. 740-740
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