研究者
J-GLOBAL ID:201901000966035256
更新日: 2024年10月12日
津田 泰孝
ツダ ヤスタカ | Tsuda Yasutaka
所属機関・部署:
職名:
研究員
研究分野 (3件):
量子ビーム科学
, 基礎物理化学
, 薄膜、表面界面物性
競争的資金等の研究課題 (2件):
- 2024 - 2027 シビアアクシデント回避に向けた二次元材料を活用した燃料被覆管の腐食抑制の研究
- 2020 - 2023 超音速分子線と放射光リアルタイム光電子分光によるシリコン表面酸化反応の理解と制御
論文 (18件):
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Koki Hayashida, Yasutaka Tsuda, Natsumi Murase, Takashi Yamada, Akitaka Yoshigoe, Wilson Agerico Diño, Michio Okada. Dissociative adsorption of supersonic CH3Cl on Cu oxide Surfaces: Cu2O(111) and bulk Cu2O precursor “29”-Structure on Cu(111). Applied Surface Science. 2024. 669
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Takuhiro Kakiuchi, Ryota Anai, Taiju Saiki, Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe. Coverage Dependence upon Early Oxidation Stages of Hafnium-Adsorbed Si(111)-7 × 7. The Journal of Physical Chemistry C. 2024
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Takamasa Makino, Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Wilson Agerico Diño, Michio Okada. CH3Cl Dissociation, CH3 abstraction, and Cl adsorption from the dissociative scattering of supersonic CH3Cl on Cu(111) and Cu(410). Applied Surface Science. 2024. 642. 158568-158568
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Hisato Yamaguchi, Ryunosuke Yusa, Gaoxue Wang, Michael T. Pettes, Fangze Liu, Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Tadashi Abukawa, Nathan A. Moody, Shuichi Ogawa. Work function lowering of LaB6 by monolayer hexagonal boron nitride coating for improved photo- and thermionic-cathodes. Applied Physics Letters. 2023. 122. 14. 141901-141901
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Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Shuichi Ogawa, Tetsuya Sakamoto, Yoshiki Yamamoto, Yukio Yamamoto, Yuji Takakuwa. Roles of excess minority carrier recombination and chemisorbed O2 species at SiO2/Si interfaces in Si dry oxidation: Comparison between p-Si(001) and n-Si(001) surfaces. The Journal of Chemical Physics. 2022. 157. 23. 234705/1-21
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MISC (24件):
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棟安陸, 室山瑞穂, 小早川なの, 津田泰孝, 坂本徹哉, 渡部誠也, 山田剛司, 赤井恵, 岡田美智雄, 吉越章隆, et al. 機能性アルカンチオール自己組織化単分子膜における官能基の反応とイオン化. 分子科学討論会講演プログラム&要旨(Web). 2022. 16th
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小川修一, 山田貴壽, 津田泰孝, 吉越章隆, 虻川匡司. ガスバリア特性評価のためのグラフェン用触媒金属膜の検討. 日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会講演予稿集. 2021. 2020 (CD-ROM)
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津田泰孝, 坂本徹哉, 吉越章隆. 放射光光電子分光を用いたGe(110)表面の酸素分子による室温酸化の研究. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th. 1431-1431
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角谷正友, 津田泰孝, 坂本徹哉, 隅田真人, SANG Liwen, 原田善之, 冨永亜希, 吉越章隆. 酸化ガス照射下でのXPSによるGaN表面化学状態の動的その場観察. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
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津田泰孝, 小川修一, 吉越章隆, 坂本徹哉, 高桑雄二. SiO2/Si(001)界面のバンドベンディングへの酸素と放射光のON-OFF効果. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
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学歴 (2件):
- 2013 - 2019 大阪大学 大学院理学研究科
- 2009 - 2013 大阪大学 理学部 化学科
学位 (1件):
経歴 (4件):
- 2024/10 - 現在 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 研究副主幹
- 2023/04 - 現在 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 研究員
- 2020/04 - 2023/03 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 博士研究員
- 2019/10 - 2020/03 大阪大学 大学院理学研究科 化学専攻 特任研究員
受賞 (2件):
- 2024/07 - 日本表面真空学会 論文賞
- 2024/03 - 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 奨励賞
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