- 2022 - 2025 極薄膜半導体チャネルCMOSのキャリア輸送特性の解明と高移動度化手法の確立
- 2017 - 2022 layer transferによる高移動度材料3次元集積CMOSの精密構造制御
- 2016 - 2019 スティープスロープMOSトランジスタに最適なMOSゲートスタック構造に関する研究
- 2017 - 2018 3次元集積Ge/III-V CMOSに向けた素子技術基盤の構築
- 2014 - 2017 Ge-On-Insulator CMOSのキャリア輸送特性解明と性能向上手法確立
- 2012 - 2015 高移動度チャネルMOSFETのキャリア輸送と素子構造に関する理論的研究
- 2011 - 2014 ゲルマニウムMOS界面電気伝導機構の解明と高移動度化手法の確立
- 2010 - 2013 省電力/超高速ナノCMOSのための電子物性設計と高移動度チャネル技術の創生
- 2008 - 2010 結晶ひずみを利用したSiMOS反転層移動度決定機構の解明と高移動度化指針の確立
- 2006 - 2010 シリコンナノエレクトロニクスの新展開に関する総括的研究
- 2006 - 2009 ナノ機能化ゲルマニウム系チャネル
- 2006 - 2007 Si系新チャネル材料MOSトランジスタにおけるキャリア輸送特性の研究
- 2004 - 2006 ひずみSiMOSトランジスタの物理モデル構築の研究
- 2005 - 2005 シリコンナノエレクトロニクスの新展開-ポストスケーリングテクノロジー
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