畑山祥吾

ハタヤマショウゴ | Hatayama Shogo

所属機関・部署：
職名：研究員

研究分野 (1件)：無機材料、物性

研究キーワード (4件)：アモルファス , 不揮発性メモリ , カルコゲナイド , 相変化材料

競争的資金等の研究課題 (5件)：

論文 (44件)：

Yi Shuang, Yuta Saito, Shogo Hatayama, Paul Fons, Ando Daisuke, Yuji Sutou. Amorphous-to-crystalline transition-induced two-step thin film growth of quasi-one-dimensional penta-telluride ZrTe5. Journal of Materials Science and Technology. 2025. 210. 246-253
Misako Morota, Shogo Hatayama, Yi Shuang, Shunsuke Mori, Yuji Sutou, Paul Fons, Yuta Saito. Interfacial reaction behavior between ferromagnetic CoFeB and the topological insulator Sb2Te3. Surfaces and Interfaces. 2024. 51
Shogo Hatayama, Kotaro Makino, Yuta Saito. Phase-change behavior of RuSbTe thin film for photonic applications with amplitude-only modulation. Scientific Reports. 2024
Kentaro Saito, Shogo Hatayama, Yuta Saito. Modified Electronic Structure of Amorphous Mn-Si-Te for Ovonic Threshold Switch Application: Improved Thermal Stability by the Formation of Mn-Te Bonding. physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters. 2024
Naoya Okada, Wen Hsin Chang, Shogo Hatayama, Yuta Saito, Toshifumi Irisawa. Electrical properties and band alignments of Sb2Te3/Si heterojunctions, low-barrier Sb2Te3/n-Si and high-barrier Sb2Te3/p-Si junctions. Applied Physics Express. 2024

MISC (24件)：

杉浦史生, 馬場将亮, 篠原維月, 畑山祥吾, 齊藤雄太, 内田紀行, 武田雅敏. スパッタ法で成膜した結晶VO₂薄膜の物性に及ぼす熱処理条件の影響. 日本金属学会講演大会(Web). 2023. 173rd
石原島弘明, 石原島弘明, 馬場将亮, 畑山祥吾, 齊藤雄太, 内田紀行, 武田雅敏. スパッタ法で成膜したVO₂薄膜の物性に及ぼすWドープの影響. 日本金属学会講演大会(Web). 2022. 171st
畑山祥吾, 齊藤雄太, 齊藤雄太, 内田紀行, 内田紀行. Hf-O-Te系アモルファス薄膜の組成制御によるセレクタ機能の発現. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
齊藤雄太, 畑山祥吾, 諸田美砂子. 配向制御したカルコゲナイド相変化材料薄膜. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
須藤祐司, 畑山祥吾, 森竣祐, YI Shunag. 相変化メモリの高性能化:新材料創成からのアプローチ. 半導体・集積回路技術シンポジウム(CD-ROM). 2021. 85th

特許 (2件)：

学歴 (1件)：

学位 (1件)：

経歴 (3件)：

受賞 (2件)：

所属学会 (2件)：

日本金属学会 , 応用物理学会

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畑山 祥吾