研究者
J-GLOBAL ID：200901003342206775   更新日: 2024年08月23日

草野 英二

クサノ エイジ | EIJI KUSANO
所属機関・部署：
金沢工業大学 金沢工業大学 バイオ・化学部 応用化学科

金沢工業大学 金沢工業大学 バイオ・化学部 応用化学科 について


職名： 教授
研究分野 (1件)： 半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (2件)： 薄膜物性 ,  スパッタリング法
競争的資金等の研究課題 (10件)：
  • 2015 - 2018 フッ化・硫化物薄膜スパッタリング堆積におけるアニオン欠陥形成の機構解明とその抑制
  • 2012 - 2015 硫化物太陽電池薄膜の低コスト・低温堆積に向けたホットウォールスパッタリング法
  • 2004 - 2006 表面プラズモン共鳴現象を用いたエレクトロニックノーズシステムの機能設計と構築
  • 2004 - 2006 分子認識機能を有するインテリジェント匂いおよび味センサシステムの開発とその応用
  • 2000 - 2002 プラズマ有機薄膜の機能設計とエレクトロニックノースへの応用
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論文 (88件)：
  • Eiji Kusano. Revisitation of reactive direct current magnetron sputtering discharge: Investigation of Mg-CF4, Mg-O2, and Ti-O2 discharges by probe measurements. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2024. 42. 2
  • Eiji Kusano. Dependence of film structure on the film structure-independent equivalent film thickness in magnetron sputtering deposition of Ag thin films. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2022. 40. 5. 053405-1-053405-14
  • Eiji Kusano. Growth of flat-topped, mound-shaped grains with voids when depositing silver thin films at high substrate temperatures using direct-current magnetron sputtering. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2022. 40. 1. 013410-1-013410-12
  • Eiji Kusano. Discharge characteristics of electronegative Mg-CF4 direct current magnetron sputtering by probe measurements. Journal of Applied Physics. 2021. 129. 23. 233305-1-233305-20
  • Eiji Kusano. Structure-Zone Modeling of Sputter-Deposited Thin Films: A Brief Review. Applied Science and Convergence Technology. 2019. 28. 6. 179-185
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MISC (18件)：
  • 草野 英二. 入学学生の多様化と進路先の多様化をつなぐ工学・工業教育のあり方 -進路指導担当者からみた新しい時代の工学・工業教育-. KIT progress : 工学教育研究. 2006. 11. 77-87
  • 草野 英二, 南都 秀仁, 谷口 昌宏. (149)つくる,評価する,考えるを実践する「ものづくり」教育 : スパッタリング法による半導体薄膜作製・評価実験(セッション43 教育システムB(実技)VII). 工学・工業教育研究講演会講演論文集. 2004. 16. 295-296
  • 林 利江, 菊地 直人, 草野 英二, 南戸 秀人, 金原 粲. 高周波マグネトロンスパッタリング法を用いた低誘電性有機薄膜の作製. 電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料. 2001. 101. 395. 101-106
  • 岸尾 悦郎, 菊地 直人, 草野 英二, 南戸 秀仁, 金原 粲. タッチパネル用SnO_2:Nb透明導電性薄膜の作製とその評価. 電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料. 2000. 100. 396. 47-52
  • 金原 粲, 菊地 直人, 草野 英二. 薄膜の付着評価法 (特集1 試験・測定技術). 月刊トライボロジ. 2000. 14. 6. 20-22
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書籍 (6件)：
  • 気泡・ボイドの発生メカニズムと未然防止・除去技術
    株式会社技術情報協会 2014
  • ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 表面技術協会
    コロナ社 2013
  • スパッタリングの基礎と応力発生メカニズム・密着力の向上
    技術情報協会 2008
  • 生産現場・開発現場において役立つ薄膜作製技術 おわりに-これからの薄膜作成技術-
    (株)リアライズ理工センター 2006
  • 生産現場・開発現場において役立つ薄膜作製技術 第2章 基盤技術・薄膜作成技術 第4節 化学気相成長法 1.化学気相成長法の概要
    (株)リアライズ理工センター 2006
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講演・口頭発表等 (9件)：
  • Electronegativity of Mg-CF4 reactive sputter discharge
    (18th International Conference on Reactive Sputter Deposition RSD 2019)
  • 3Ep12 Mg-CF4直流反応性スパッタリング放電における負イオン形成と薄膜再スパッタリング
    (2019)
  • [18p-C309-8] Mg-CF4直流反応性スパッタリング放電における負のプラズマ電位の発生
    (2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019)
  • Revisitation of the structure zone model of sputter-deposited thin films
    (The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes 2019)
  • Model calculation and visualization of time-dependent reactive gas mass balance change in Ti-O2 reactive sputtering,” 16th International Conference on Reactive Sputtering
    (16th International Conference on Reactive Sputtering 2017)
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学歴 (2件)：
  • 1981 - 1983 神戸大学大学院 工学研究科 工業化学専攻
  • 1977 - 1981 神戸大学 工学部 工業化学科
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (東京大学)
経歴 (2件)：
  • 2001 - 金沢工業大学 教授
  • 1996 - 2000 金沢工業大学 助教授
委員歴 (17件)：
  • 2022/09 - 現在 The international union for vacuum science, technique, and applications Division of Surface Engineering, Committee Member (Representative from Japan)
  • 2022/08 - 現在 公益社団法人 日本表面真空学会 国際連携委員会委員
  • 2004/04 - 現在 日本ファインセラミックス協会 規格化委員会 薄膜・コーティング部門委員長
  • 2021/01 - 2022/09 Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications 22th Intl. Vacuum Congress Programming Committee, Member
  • 2007/01 - 2021/12 表面技術協会 評議員
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所属学会 (6件)：
Society of Vacuum Coaters ,  American Vacuum Society ,  公益社団法人日本化学会 ,  一般社団法人表面技術協会 ,  公益社団法人日本表面真空学会 ,  公益社団法人応用物理学会
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